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臭氧產(chǎn)品
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在H 2 O 2 / O 3體系中,H 2 O 2與O 3結(jié)合使用,通過以下反應(yīng)增強(qiáng)羥基自由基的形成:
H2O2 + H2O → HO2- + H3O+ O3 + HO2- → •OH + O2- + O2 
該過程有時(shí)稱為過氧化物,采用以下設(shè)備:H202儲(chǔ)存和注入系統(tǒng),O3發(fā)生器和注入系統(tǒng),接觸器和混合罐,臭氧廢氣破壞裝置,供應(yīng)和排放泵,以及監(jiān)測(cè)和控制系統(tǒng)。
 
高級(jí)氧化臭氧過氧化物工藝
 
臭氧的加入比例為每mg / L DOC(溶解的有機(jī)碳)1至2 mg / L臭氧; 但是,對(duì)于具有高堿度(> 100 mg / L CaCO3)或NOM的源水,建議使用更高的劑量。H 2 O 2從水溶液中加入,過氧化物與臭氧的比例為0.3:1至3:1。具體比例將取決于消毒要求,溴化物濃度,污染物濃度和其他水質(zhì)參數(shù)。
已經(jīng)證明組合的H 2 O 2 / O 3方法在去除天然和合成有機(jī)物方面比單獨(dú)的O 3或H 2 O 2更有效。此外,使用O3和H2O2的組合產(chǎn)生羥基自由基而不僅僅是O3,允許使用較低劑量的O3。
通過H2O2 / O3技術(shù)得到的羥基自由基的理論產(chǎn)率低于H2O2 / UV技術(shù); 然而,產(chǎn)量受水質(zhì)影響較?。礉岫?,鐵和硝酸鹽會(huì)降低紫外線過程的產(chǎn)量,但不會(huì)降低H2O2 / O3過程的產(chǎn)量)。
H2O2 / O3系統(tǒng)已經(jīng)過廣泛測(cè)試,并應(yīng)用于地下水的修復(fù)應(yīng)用。因此,H2O2 / O3系統(tǒng)的實(shí)施具有現(xiàn)場(chǎng)驗(yàn)證的操作歷史和監(jiān)管接受度。
H2O2 / O3系統(tǒng)已在臺(tái)式,中試和現(xiàn)場(chǎng)規(guī)模水平上進(jìn)行了充分研究,以去除有機(jī)污染物,如BTEX,TCE和PCE。目前有許多用于MTBE修復(fù)的全尺寸H2O2 / O3系統(tǒng)。H2O2 / O3系統(tǒng)背后的化學(xué)反應(yīng)已得到充分了解; 但是,與所有AOP一樣,在設(shè)計(jì)全面安裝之前通常需要進(jìn)行中試規(guī)模演示。

標(biāo)簽:臭氧(84)高級(jí)氧化(4)過氧化物工藝(1)


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